一种自交联聚合物的合成及其在水显影化学增幅型负性抗蚀剂中的应用

doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2000.02.155

影像科学与光化学 ›› 2000, Vol. 18 ›› Issue (2): 155-159.DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.2000.02.155

一种自交联聚合物的合成及其在水显影化学增幅型负性抗蚀剂中的应用

陈其道¹, 陈明¹, 林天舒¹, 洪啸吟¹, 黄志齐², 胡德甫²

1. 清华大学化学系, 北京100084;
2. 北京化学试剂所, 北京100022

收稿日期:1999-05-06 修回日期:1999-06-01 出版日期:2000-05-20 发布日期:2000-05-20
通讯作者: 洪啸吟
基金资助:
国家自然科学基金资助项目(59773007)

SYNTHESIS OF A SELF-CROSSLINKING POLYMER AND ITS APPLICATION IN WATER-DEVELOPABLE,CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE PHOTORESIST

CHEN Qi-dao¹, CHEN Ming¹, LIN Tian-shu¹, HONG Xiao-yin¹, HUANG Zhi-qi², HU De-fu²

1. Department of Chemistry, Tsinghua University, Beijing 100084, P. R. China;
2. Beijing Institute of Chemical Reagent, Beijing 100022, P. R. China

Received:1999-05-06 Revised:1999-06-01 Online:2000-05-20 Published:2000-05-20

摘要/Abstract

摘要： 本文引入单体MAGME合成了具有自交联作用的MAGME、苯乙烯和N(4 羟基苯基)马来酰亚胺的共聚物,并以该聚合物为基体树脂,研制了一种新型的水显影化学增幅型负性抗蚀剂,并初步研究了其光刻工艺条件.

关键词: 自交联, 水显影, 化学增幅, 负性抗蚀剂

Abstract: A new kind of acid-sensitive polymer with T_g=95℃ and M_n=7625, M_w=25013 (M_w/M_n=3.28) was synthesized by the co-polymerization of styrene, N-(4-hydroxyphenyl) maleimide and methylacrylamidoglycolate methylether(MAGME). This MAGME containing co-polymer can be self-crosslinked via acid-catalyzed condensation reaction when heated. A new kind of chemically amplified negative photoresist without crosslinking agent was studied using this co-polymer as the base resin, which was developable in harmless NaOH-H₂O solution. Diaryliodonium hexafluorophosphate was used in the photoresist as the photo-acid generator to supply the strong acid and phenothiazine was the photosensitizer. The condition of photolithography was preliminarily investigated.

Key words: self-crosslinking, water-developable, chemically amplified, negative photoresist

中图分类号:

O644

陈其道, 陈明, 林天舒, 洪啸吟, 黄志齐, 胡德甫. 一种自交联聚合物的合成及其在水显影化学增幅型负性抗蚀剂中的应用[J]. 影像科学与光化学, 2000, 18(2): 155-159.

CHEN Qi-dao, CHEN Ming, LIN Tian-shu, HONG Xiao-yin, HUANG Zhi-qi, HU De-fu. SYNTHESIS OF A SELF-CROSSLINKING POLYMER AND ITS APPLICATION IN WATER-DEVELOPABLE,CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE PHOTORESIST[J]. Imaging Science and Photochemistry, 2000, 18(2): 155-159.

[1]	郑祥飞, 孙小侠, 刘敬成, 穆启道, 刘仁, 刘晓亚. 化学增幅型光刻胶材料研究进展[J]. 影像科学与光化学, 2020, 38(3): 392-408.
[2]	魏孜博, 马文超, 邱迎昕. 248 nm深紫外光刻胶用成膜树脂的研究进展[J]. 影像科学与光化学, 2020, 38(3): 430-435.
[3]	黄蕾, 宾月景, 黄新, 张复实. 一种新型酞菁类光蚀刻记录材料的光生酸性质研究[J]. 影像科学与光化学, 2007, 25(2): 142-146.
[4]	翟晓晓, 褚战星, 王力元. 水溶性光致抗蚀剂研究进展[J]. 影像科学与光化学, 2007, 25(1): 69-79.
[5]	王文君, 李华民, 王力元. 一种适用于193nm光刻胶的硫盐光产酸剂的制备与性质[J]. 影像科学与光化学, 2005, 23(1): 48-54.
[6]	郑金红, 黄志齐, 侯宏森. 248nm深紫外光刻胶[J]. 影像科学与光化学, 2003, 21(5): 346-356.
[7]	王文君, 张改莲, 王力元, 余尚先. 酸增殖剂研究进展[J]. 影像科学与光化学, 2003, 21(4): 296-302.
[8]	余尚先, 杨凌露, 张改莲. ArF激光光致抗蚀剂的研究进展[J]. 影像科学与光化学, 2003, 21(1): 61-71.
[9]	陈明, 陈其道, 洪啸吟. 193-nm光刻中的光致抗蚀剂[J]. 影像科学与光化学, 2000, 18(1): 77-84.
[10]	吴兵, 李元昌, 陈明, 林天舒, 洪啸吟, 焦晓明, 程爱萍, 陈建军. 甲酚醛树脂—HMMM负性水型化学增幅抗蚀剂的研究[J]. 影像科学与光化学, 1998, 16(2): 154-160.

一种自交联聚合物的合成及其在水显影化学增幅型负性抗蚀剂中的应用

SYNTHESIS OF A SELF-CROSSLINKING POLYMER AND ITS APPLICATION IN WATER-DEVELOPABLE,CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE PHOTORESIST

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