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硅在HF溶液中阳极溶解的研究
- 尹峰, 李学萍, 肖绪瑞
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1997, 15(1):
80-83.
DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.1997.01.80
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计量指标
Uhlir及Turner早在50年代就已发现[1,2],硅在HF溶液中阳极极化时,阳极电流大于某一特定值硅表面会发生电抛光反应,而低于这个值硅表面则会形成一层不同颜色的多孔硅层.1990年Canham发现多孔硅层在室温下有光致发光现象[3],受到科学界的高度重视,在世界范围内掀起了研究多孔硅的热潮[4].众多的研究表明,多孔硅的发光性能与其微孔的多少、大小和分布密切相关.但多孔硅要发展成为可实用的光电子材料,首先必须制备出微孔分布均匀,孔径及孔深可控的多孔硅材料.这就有必要弄清多孔硅的形成机理[5],了解硅在HF溶液中的溶解过程及机理.为此,本文对不同掺杂浓度不同导电类型的(111)晶面单晶硅在HF溶液中的电流-电压(I-V)、电容-电压(C-V)特性进行了研究,并对这些特性进行了分析.