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TiNi合金表面原位热氧化膜的结构与光电性能的研究
- 王改田, 涂江平, 张文魁, 张博, 袁永锋, 黄辉, 甘永平
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2005, 23(3):
161-166.
DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.2005.03.161
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计量指标
采用AFM、XRD和EDS等手段,对TiNi合金在空气中、400—800℃下形成的氧化膜组织结构进行了分析,并对TiNi合金表面原位热氧化膜的光电性能进行了研究.结果表明,TiNi合金在空气中氧化原位形成的氧化膜的结构主要为金红石型二氧化钛,不同温度下生长的氧化膜存在择优取向;随着氧化温度的升高,所制备的TiO2/TiNi电极的稳态光电流和开路光电压随氧化温度的升高先增大后减小,在700℃所制备的TiO2/TiNi电极的稳态光电流最大.