248 nm深紫外光刻胶用成膜树脂的研究进展
魏孜博, 马文超, 邱迎昕
Development of Matrix Resins for 248 nm Deep UV Photoresist
WEI Zibo, MA Wenchao, QIU Yingxin
影像科学与光化学 . 2020, (3): 430 -435 .  DOI: 10.7517/issn.1674-0475.191014

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