一种新型深紫外正型光致抗蚀剂材料的研究

一种新型深紫外正型光致抗蚀剂材料的研究

褚战星, 程龙, 王文君, 王力元

Studies on a Novel Deep UV Positive Photoresist Material

CHU Zhan-xing, CHENG Long, WANG Wen-jun, WANG Li-yuan

影像科学与光化学 . 2006, (5): 377 -381 . DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.2006.05.377