影像科学与光化学 ›› 1988, Vol. 6 ›› Issue (2): 7-12.DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.1988.02.7
王利盛1, 马福泰1, 俞稼镛2
WANG LI-SHENG1, MA FU-TAI1, YU JlA-YONG2
摘要: 本文采用真空-质谱技术研究了紫外线照射下分子氧在锐钛矿型TiO2表面的吸附和脱附机理。氧光助吸附后,锐钛矿表面成为活化表面。活化表面的O2-(分子氧在锐钛矿表面的吸附态)在1.33×10-3Pa的真空中,在能量大于锐钛矿禁带宽度2.9eV的紫外线照射下成为分子氧脱附,氧脱附后的表面在无紫外线照射的氧气氛中对分子氧有吸附作用,该O2-饱和吸附量大于相同氧压下紫外线照射下O2的饱和吸附量。在氧压和光强度相同的条件下,O2-吸附量与表面羟基化程度呈线性关系。