丙烯酰基苯并三氮唑及其聚合物光物理过程的研究

doi:10.7517/j.issn.1674-0475.1991.03.237

影像科学与光化学 ›› 1991, Vol. 9 ›› Issue (3): 237-239.DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.1991.03.237

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丙烯酰基苯并三氮唑及其聚合物光物理过程的研究

白凤莲¹, 李青山², 李荫常²

1. 中国科学院化学研究所, 北京 100080;
2. 齐齐哈尔轻工学院化工系, 齐齐哈尔 161006

收稿日期:1989-11-18 修回日期:1990-12-26 出版日期:1991-08-20 发布日期:1991-08-20
通讯作者: 白凤莲
基金资助:
北京分子动态及稳态结构开放实验室资助

THE STUDY ON THE PHOTOPHYSICS PROCESS IN ACRYL-OYLBENZOTRIAZOLE AND ITS POLYMER

BAI FENG-LIAN¹, LI QING-SHAN², LI YIN-CHANG²

1. Institute of Chemistry, Academia Sinica, Beijing 100030, P. R. China;
2. Department of Chemical Engineering, Qiqihar Institute of Light Industry, Qiqihar 161006, P. R. China

Received:1989-11-18 Revised:1990-12-26 Online:1991-08-20 Published:1991-08-20

摘要/Abstract

摘要： 1-N-丙烯酰基苯并三氮唑(ABT)及其聚合物-聚丙烯酰基苯并三氮唑(PABT)作为功能高分子材料的母体和重要原料已引起人们的重视。如报道[1]利用PABT可制备聚丙烯酸及其各种不同的酯类、带芳酰胺或脂肪酰胺侧基的各种聚酰胺化合物等。

关键词: 丙烯酰基苯并三氮唑, 聚丙烯酰基苯并三氮唑, 激基复合物

Abstract: This paper is concerned with the study on the photophysics process in acryloylbenzotria-zole(ABT) and polyacryloylbenzotriazole (PABT).The exciplex fluorescence spectra between ABT or PABT and sulfuric acid or trifluoroacetic acid were observed respectively.It is useful for understanding photoreaction mechanism of ABT.

Key words: acryloylbenzotriazole, polyacryloylbenzotriazole, exciplex

白凤莲, 李青山, 李荫常. 丙烯酰基苯并三氮唑及其聚合物光物理过程的研究[J]. 影像科学与光化学, 1991, 9(3): 237-239.

BAI FENG-LIAN, LI QING-SHAN, LI YIN-CHANG. THE STUDY ON THE PHOTOPHYSICS PROCESS IN ACRYL-OYLBENZOTRIAZOLE AND ITS POLYMER[J]. Imaging Science and Photochemistry, 1991, 9(3): 237-239.

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丙烯酰基苯并三氮唑及其聚合物光物理过程的研究

THE STUDY ON THE PHOTOPHYSICS PROCESS IN ACRYL-OYLBENZOTRIAZOLE AND ITS POLYMER

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