干法显影的电子束抗蚀剂——聚环己烯砜叠氮系
杨永源, 冯树京, 高志民, 电子束光刻组
DRY DEVELOPING ELECTRON BEAM RESIST——POLYCYCLOHEXENE-SULFONE AZIDES
YANG YONG-YUAN, FENG SHU-JING, GAO ZHI-MIN, RESEARCH GROUP OF ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY
影像科学与光化学
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1986, (2): 1
-6
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DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.1986.02.1
