用于浸没式工艺的光刻胶研究进展
何鉴, 盛瑞隆, 穆启道
Progress in Photoresist for Immersion Lithography
HE Jian, SHENG Rui-long, MU Qi-dao
影像科学与光化学 . 2009, (5): 379 -390 .  DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.2009.05.379

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