ArF激光光致抗蚀剂的研究进展
余尚先, 杨凌露, 张改莲
THE PROGRESS OF ArF EXCIMER LASER PHOTORESIST
YU Shang-xian, YANG Ling-lu, ZHANG Gai-lian
影像科学与光化学 . 2003, (1): 61 -71 .  DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.2003.01.61

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