影像科学与光化学 ›› 1989, Vol. 7 ›› Issue (1): 60-68.DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.1989.01.60

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有机双稳态分子的设计

王夺元   

  1. 中国科学院感光化学研究所 北京
  • 收稿日期:1988-04-25 修回日期:1988-07-25 出版日期:1989-02-20 发布日期:1989-02-20

  • Received:1988-04-25 Revised:1988-07-25 Online:1989-02-20 Published:1989-02-20

摘要: 以超大规模集成电路为核心的微电子学已发展得相当成熟,制备10μm大小的集成电路元件已成为常规工艺,提高集成度,缩小元件尺寸的努力仍在向前发展。目前世界上已能生产 1-4 兆集成度的半导体存贮器,加工线宽可达0.8μm,接近亚微米级,不久集成度可达64兆位,加工线宽将达0.1-0.2μm,即达到亚微米级的极限,根据这种发展趋势,有人作出预测,到 2020 年时,集成电路中单个元件的尺寸将小至钠米级(~101-米),即进人分子水平。

关键词: 双稳态, 分子电子器件, 光致变色, 光异构化, 光致质子转移, 光致构象变化, 光化学蚀孔, 光子选通