TiNi合金表面原位热氧化膜的结构与光电性能的研究

doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2005.03.161

影像科学与光化学 ›› 2005, Vol. 23 ›› Issue (3): 161-166.DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.2005.03.161

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TiNi合金表面原位热氧化膜的结构与光电性能的研究

王改田¹, 涂江平¹, 张文魁², 张博¹, 袁永锋¹, 黄辉², 甘永平²

1. 浙江大学, 材料系, 浙江, 杭州, 310027;
2. 浙江工业大学, 化学与材料学院, 浙江, 杭州, 310032

收稿日期:2004-11-26 修回日期:2005-01-06 出版日期:2005-05-23 发布日期:2005-05-23
通讯作者: 涂江平(1963-), 男, 教授, 博士生导师, 主要研究复合功能材料, 通讯联系人, Tel/Fax:0571-87952573.
基金资助:
国家自然科学基金(50201016).

Miscrostructure and Photoelectrical Performance of Titanium Oxide Film Prepared by In-Situ Oxidation on TiNi Alloy Surface

WANG Gai-tian¹, TU Jiang-ping¹, ZHANG Wen-kui², ZHANG Bo¹, YUAN Yong-feng¹, HUANG Hui², GAN Yong-ping²

1. Department of Materials Science and Engineering, Zhejiang University, Hangzhou 310027, Zhejiang, P.R. China;
2. College of Chemical Engineering and Materials Science, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310032, Zhejiang, P.R. China

Received:2004-11-26 Revised:2005-01-06 Online:2005-05-23 Published:2005-05-23

摘要/Abstract

摘要： 采用AFM、XRD和EDS等手段,对TiNi合金在空气中、400—800℃下形成的氧化膜组织结构进行了分析,并对TiNi合金表面原位热氧化膜的光电性能进行了研究.结果表明,TiNi合金在空气中氧化原位形成的氧化膜的结构主要为金红石型二氧化钛,不同温度下生长的氧化膜存在择优取向;随着氧化温度的升高,所制备的TiO₂/TiNi电极的稳态光电流和开路光电压随氧化温度的升高先增大后减小,在700℃所制备的TiO₂/TiNi电极的稳态光电流最大.

关键词: TiNi合金, TiO₂, 原位热氧化, 光电响应

Abstract: The preparation, structure and photoelectric properties of titanium oxide films formed by in-situ direct thermally oxidation of TiNi alloys were investigated by AFM,XRD, EDS and photocurrent response. The results showed that the films is rutile TiO₂, and its crystal orentation is dependent on the thermal oxidation temperature. With increasing the oxidation temperature, the photocurrent and open-circuit voltage of TiO₂/TiNi electrode first increased, and then decreased. when the oxidation temperature was 700 ℃, the photocurrent of TiO₂/TiNi electrode was the highest.

Key words: TiNi alloy, titanium oxide, in-situ thermal oxidation, photocurrent response

中图分类号:

王改田, 涂江平, 张文魁, 张博, 袁永锋, 黄辉, 甘永平. TiNi合金表面原位热氧化膜的结构与光电性能的研究[J]. 影像科学与光化学, 2005, 23(3): 161-166.

WANG Gai-tian, TU Jiang-ping, ZHANG Wen-kui, ZHANG Bo, YUAN Yong-feng, HUANG Hui, GAN Yong-ping. Miscrostructure and Photoelectrical Performance of Titanium Oxide Film Prepared by In-Situ Oxidation on TiNi Alloy Surface[J]. Imaging Science and Photochemistry, 2005, 23(3): 161-166.

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TiNi合金表面原位热氧化膜的结构与光电性能的研究

Miscrostructure and Photoelectrical Performance of Titanium Oxide Film Prepared by In-Situ Oxidation on TiNi Alloy Surface

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