三甲基硅取代酞菁的光降解反应研究

doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2001.02.127

影像科学与光化学 ›› 2001, Vol. 19 ›› Issue (2): 127-130.DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.2001.02.127

三甲基硅取代酞菁的光降解反应研究

郭霖, 孟凡顺, 陈孔常, 田禾

华东理工大学精细化工研究所, 上海200237

收稿日期:2000-09-15 修回日期:2000-10-27 出版日期:2001-05-20 发布日期:2001-05-20
通讯作者: 田禾
基金资助:
国家自然科学基金重点资助项目(29836150)

STUDY ON THE PHOTODEGRADATION OF TRIMETHYLSILYL SUBSTITUTED PHTHALOCYANINE

GUO Lin, MENG Fan-shun, CHEN Kong-chang, TIAN He

Institute of Fine Chemicals, East China University of Science & Technology, Shanghai 200237, P.R. China

Received:2000-09-15 Revised:2000-10-27 Online:2001-05-20 Published:2001-05-20

摘要/Abstract

摘要： 三甲基硅取代锌酞菁在有机溶剂中的光降解为准一级动力学衰减,本文对其光降解后产生的碎片用气相色谱质谱联用技术进行了分析,提出了三甲基硅取代锌酞菁的光降解机理.三甲基硅取代酞菁在有机溶剂中的溶解度是影响其光降解的主要因素,溶解度越大,光降解速度越快.

关键词: 三甲基硅取代酞菁, 光降解, 机理

Abstract: The photodegradation of trimethylsilyl substituted ZnPc in different organic solvents is of quai first order kinetic decay and the resulting species were analyzed by GC/MS spectrometer. The mechanism of the photodegradation was proposed. Solubility is the key factor affects the photofading of TMS substituted Pcs. The greater the solubility the faster the fading.

Key words: trimethylsilyl substituted Pcs, photodegradation, mechanism

中图分类号:

O644

郭霖, 孟凡顺, 陈孔常, 田禾. 三甲基硅取代酞菁的光降解反应研究[J]. 影像科学与光化学, 2001, 19(2): 127-130.

GUO Lin, MENG Fan-shun, CHEN Kong-chang, TIAN He. STUDY ON THE PHOTODEGRADATION OF TRIMETHYLSILYL SUBSTITUTED PHTHALOCYANINE[J]. Imaging Science and Photochemistry, 2001, 19(2): 127-130.

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三甲基硅取代酞菁的光降解反应研究

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