影像科学与光化学 ›› 1998, Vol. 16 ›› Issue (2): 154-160.DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.1998.02.154
吴兵1, 李元昌1, 陈明1, 林天舒1, 洪啸吟1, 焦晓明2, 程爱萍2, 陈建军2
WU Bing1, LI Yuanchang1, CHEN Ming1, LIN Tianshu1, HONG Xiaoyin1, JIAO Xiaoming2, CHENG Aiping2, CHEN Jianjun2
摘要: 本文利用二苯碘 盐为光敏产酸物,吩噻嗪为敏化剂,配制了一种甲酚醛树脂——六甲氧基甲基三聚氰胺(HMMM)负性水型紫外化学增抗蚀剂,并研究了光敏产酸物和增感剂对体系光敏性的影响及体系中存在的拉平效应,通过优化后的光刻工艺条件得到了分辨率为1.24μm的光刻图形。