酸增殖剂研究进展

doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2003.04.296

影像科学与光化学 ›› 2003, Vol. 21 ›› Issue (4): 296-302.DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.2003.04.296

酸增殖剂研究进展

王文君, 张改莲, 王力元, 余尚先

北京师范大学, 化学系, 北京, 100875

收稿日期:2003-03-26 修回日期:2003-05-20 出版日期:2003-07-23 发布日期:2003-07-23
通讯作者: 王力元(1964-), 男, 副教授, 主要从事非银盐成像材料等领域的研究.
基金资助:
2002-2003国家重点863项目(2002AA3Z1330)

THE PROGRESS OF ACID AMPLIFIER INVESTIGATIONS

WANG Wen-jun, ZHANG Gai-lian, WANG Li-yuan, YU Shang-xian

Chemistry Department, Beijing Normal University, Beijing 10875, P.R. China

Received:2003-03-26 Revised:2003-05-20 Online:2003-07-23 Published:2003-07-23

摘要/Abstract

摘要： 本文综述了能有效提高化学增幅抗蚀剂体系感度的各种类型酸增殖剂及其酸增殖机理.对某些常用于光致抗蚀剂中的酸增殖剂的特性作了介绍.并对它们的应用前景、现存问题和改进方向进行了简单讨论和介绍.

关键词: 化学增幅抗蚀剂, 酸增殖剂, 光致抗蚀剂, 感度

Abstract: This article reviews the various acid amplifiers which can effectively elevate the photosensitivity in the chemically amplified photoresist systems and their reaction mechanism of acid amplification.The application prospect,existing problem and future improvement of these materials are also discussed.

Key words: chemically amplified photoresist, acid amplifier, photosensitivity

中图分类号:

TQ57

王文君, 张改莲, 王力元, 余尚先. 酸增殖剂研究进展[J]. 影像科学与光化学, 2003, 21(4): 296-302.

WANG Wen-jun, ZHANG Gai-lian, WANG Li-yuan, YU Shang-xian. THE PROGRESS OF ACID AMPLIFIER INVESTIGATIONS[J]. Imaging Science and Photochemistry, 2003, 21(4): 296-302.

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