阳离子电沉积法制备光致抗蚀剂的研究

doi:10.7517/j.issn.1674-0475.1999.03.284

影像科学与光化学 ›› 1999, Vol. 17 ›› Issue (3): 284-287.DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.1999.03.284

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阳离子电沉积法制备光致抗蚀剂的研究

何勇, 张云龙, 吴飞鹏, 李妙贞, 王尔鉴

中国科学院感光化学研究所, 北京100101

收稿日期:1998-07-15 修回日期:1998-12-04 出版日期:1999-08-20 发布日期:1999-08-20
通讯作者: 何勇

Received:1998-07-15 Revised:1998-12-04 Online:1999-08-20 Published:1999-08-20

摘要/Abstract

摘要： 当前,印制电路板已广泛应用于航空、航天、通信、通用电器和计算机等各个领域,而光致抗蚀剂是印制电路板生产中的重要化学品,由于印制电路向着微型化、轻量化、大容量、高密度和高可靠性的方向发展,传统的工艺和材料将不能满足上述要求。

关键词: 电沉积, 光致抗蚀剂, 印制电路板, 涂装

何勇, 张云龙, 吴飞鹏, 李妙贞, 王尔鉴. 阳离子电沉积法制备光致抗蚀剂的研究[J]. 影像科学与光化学, 1999, 17(3): 284-287.

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